An AFM-based Mask Repair and More

Park NX-Mask는 원자현미경 기반의 나노머시닝(Nano-machining) 기술을 이용한 차세대 마스크 리페어 장비로, 반도체 최첨단 공정인 포토 마스크에 발생하는 나노미터 크기의 결함 및 파티클을 가장 안전하고 효과적으로 제거할 수 있습니다. Park NX-Mask는 마스크를 위한 듀얼 포드를 지원하며, 마스크 패턴에 발생한 결함 및 파티클의 형상 측정 및 제거, 제거 후 검증까지 모든 과정을 하나의 솔루션으로 완벽하게 제공하여, 고비용의 공정에서 생산원가를 낮추고, 디바이스 수율을 높일 수 있습니다.

All-in-one Solution for Locating Defects & Post-repair Verification

반도체 산업에서 포토마스크 수리는 리소그래피의 결함을 수정하는 데 중요합니다. 전통적인 수리 방법인 전자빔(E-Beam)이나 레이저는 빔 크기 제한으로 인해 마스크의 정밀 패턴을 손상시킬 위험이 있습니다. 또한, 이러한 시스템의 자동화 부족은 인라인 프로세스에 통합하는 것을 어렵게 만듭니다. Park Systems는 고급 AFM 포토마스크 수리 기술을 통해 이러한 문제를 해결하여 자동 결함 검토, 비손상 수리 및 수리 검증을 위한 종합 솔루션을 제공함으로써 수리 효율성과 처리량을 향상시킵니다. Park NX-Mask는 원자현미경 기반의 나노머시닝(Nano-machining) 기술을 이용한 차세대 마스크 리페어 장비로, 포토 마스크에 발생하는 나노미터 크기의 결함 및 파티클을 가장 안전하고 효과적으로 제거할 수 있습니다. Park NX-Mask는 마스크를 위한 듀얼 포드를 지원하며, 마스크 패턴에 발생한 결함 및 파티클의 형상 측정 및 제거, 제거 후 검증까지 모든 과정을 하나의 솔루션으로 완벽하게 제공하여, 고비용의 공정에서 생산원가를 낮추고, 디바이스 수율을 높일 수 있습니다.

An Innovative Tool for the Repair of High-end Mask Incorporating Advanced AFM

Park NX-Mask는 마스크 처리를 위해 특별히 설계된 자동화된 듀얼 팟 디자인을 특징으로 하는 인라인 생산에 최적화된 솔루션을 제공합니다. AFM 기술을 활용하여 모든 유형의 결함을 원활하게 수리할 수 있으며, 자동 결함 검토, 결함 수리 및 수리 과정 검증을 포함한 올인원 솔루션을 제공합니다. 또한, 자동화된 듀얼 팟 디자인은 인라인 생산 환경에서 마스크 처리를 간소화하여 전체 공정의 효율성과 정밀성을 향상시킵니다.

Safe and Superior Defect Repair

광원에서 발생하는 주석(Sn) 입자와 같은 이물질이 포토마스크에 도달하여 빛의 반사율을 감소시킬 수 있습니다. Park NX-Mask는 입자 및 패턴 결함의 복잡성을 완전히 안전하게 찾아 제거하기 위해 검증된 나노 기계적 AFM 기술을 활용합니다. 기존의 포토마스크 수리 시스템과 달리, Park NX-Mask는 마스크 표면에 손상이나 변형을 일으키지 않고 수리를 수행합니다.
Park NX-Mask Repairs All Types of Defects

포토마스크 결함은 환경의 이물질 또는 잘못된 패턴 처리로 인해 발생합니다. 고급 포토마스크에서 가장 흔히 발견되는 결함은 리소그래피 과정에서 생성된 주석 입자입니다. Park NX-Mask의 AFM 나노 기계적 방법은 포토마스크 수리에 완전히 안전하고 우수한 많은 이점을 제공합니다.
Seamless Integration

Park NX-Mask는 인라인 생산을 위해 최적화된 솔루션을 제공합니다. 특히 마스크 처리를 위해 설계된 자동 듀얼 포드 디자인을 특징으로 합니다. AFM 기술을 활용하여 모든 유형의 결함을 원활하게 수리할 수 있으며, 자동 결함 검토, 결함 수리 및 수리 과정 검증을 포함하는 올인원 솔루션을 제공합니다. 더욱이, 자동 듀얼 포드 디자인은 인라인 생산 환경에서 마스크 처리를 간소화하여 효율성과 정밀성을 향상시킵니다.
AFM for Surface and Step Height Measurement

Park NX-Mask는 독자적인 비접촉 AFM 기술을 사용하여 결함을 찾기 위해 조사 스캔을 먼저 수행합니다. 이 방법은 가장 안전한 스캔 방법을 제공합니다. 조사 스캔을 통해 Park NX-Mask는 결함의 수량과 정확한 위치, 각 입자 및 결함에 대한 정보를 파악합니다. 수리 후, Park NX-Mask는 비접촉 AFM 기술을 사용하여 수리 후 검증을 수행하며, 표면 거칠기와 같은 중요한 계측 데이터뿐만 아니라 나노스케일 3D 지형을 생성합니다.