用于产线计量的原子力显微镜

光掩模修复

光掩模修复已成为半导体行业中解决光刻过程中积累的外来物缺陷的重要技术。这些缺陷阻碍并影响了精确的印刷过程，光掩模的再利用需要修复。然而，目前主要的掩模修复系统主要基于电子束或激光，可能会损坏样品的表面和图案。这个问题在应用微细图案的掩模上尤为明显。此外，这些系统通常缺乏自动化，难以无缝集成到在线过程中。Park Systems的先进AFM技术满足了工业需求。我们提供从自动缺陷检查到修复和无损修复验证的全方位解决方案，以前所未有的修复效率加速了吞吐量。