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Accurion RSE

光谱型参比椭偏仪

光谱型参比椭偏仪(RSE), 设计用于质量控制中的高速厚度mapping。它可以精准测量0.1 nm至10µm的厚度。每秒记录200个完整的光谱,可以在12分钟内研究100mmx 100mm的区域,并同时获得67000个光谱。

光谱型参比椭偏仪概述

技术

与传统的椭偏仪或反射仪相比,光谱型参比椭偏仪有什么优点?

光谱型参比椭偏仪将椭偏仪的高灵敏度与反射仪的测量速度相结合,甚至超过了它。 与激光椭偏仪相比,它包括450至900 nm之间的光谱信息。如果所处理的层的多个参数是可变的,例如厚度和光密度,这一点非常重要的。 从事实来说,参比法比绝对法更敏感。因此,当聚焦非常薄的层时,RSE方法优于传统的椭偏法。与反射仪测量相比,高薄膜灵敏度的优势会体现地更加明显。

技术

什么是椭偏仪?

椭偏技术是一种非常灵敏的光学方法,百年来一直被用于各种薄膜的光学分析测量。它的基本原理是:当一束偏振光经过样品表界面反射之后偏振状态会发生变化。如果样品表面是一层薄膜(或者多层薄膜堆叠),整个薄膜和基底的光学信息对反射光束的偏振状态都有影响。因此,通过椭偏方法可以对薄膜的厚度和其他性质进行分析。

技术

光谱型参比椭偏仪是如何工作的?

RSE是一种特殊类型的椭偏仪,它通过将参考样品和被测样品进行比较,测量它们之间的差异从而对被测样品进行椭偏分析。在测量过程中没有任何需要转动或者调制的光学部件,并且可以在单次测量中获得完整的、高分辨率的光谱椭偏数据。通常可每秒采集200个光谱椭偏数据。通过配备同步的X/Y二维自动样品台可以在数分钟内测量获得大面积样品的薄膜厚度分布图。 由于参考补偿系统仍然是椭偏仪原理,因此需要将测量数据拟合到光学模型,以获得光学参数,如折射率和薄膜厚度。为了实现高速的数据处理速度,实现了查找表拟合。在测量之前,将计算一个查找表。然后可以实时且高分辨率地拟合测量数据。

主要功能

  • “单次”参比光谱椭偏测量
  • 每秒200个全光谱椭偏数据
  • 用于评估薄膜厚度的实时数据处理
  • 光斑尺寸:50 x 100um(入射角=60°)的微光斑
  • 薄膜厚度测量范围:<1nm~10um
  • 光谱范围:450–900 nm

Accurion RSE: 快速晶圆检测

应用

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2D材料

成像光谱椭偏仪表征石墨烯和其他2D材料,使用ep4椭偏仪分析CVD生长、剥离和外延生长的薄片。

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曲面

椭偏法测量平面和曲面上的薄膜和AR涂层。ep4椭偏仪解决了微透镜阵列上的AR涂层问题。

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透明基板

透明基板上的薄膜是柔性显示器的关键。刀刃照明抑制反射,允许非破坏性检查。

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表面工程

硅烷化在涂料和粘合剂中结合矿物/无机和有机成分。成像椭偏法在没有荧光标记的结构阵列中检查键合形成。

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空气-水界面

空气/水界面在生物物理学和工业中至关重要。布儒斯特角显微镜(BAM)可视化Langmuir-Blodgett单分子层和生物材料,研究分子、蛋白质、药物、DNA和纳米粒子。

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各向异性薄膜

各向异性微晶体在电子学中具有前景。成像穆勒矩阵椭偏法(IMME)测量各向异性薄膜样品(如黑磷)的折射率和光轴方向。

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生物界面

成像椭偏法(IE)对单层和亚单层厚度具有高灵敏度。它提供了椭偏角的显微图和厚度变化的对比模式。像细胞和QCM-D这样的附件增强了其生物应用能力。

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MEMS

光谱椭偏法测量小至1µm的MEMS结构,提供0.1nm薄膜厚度分辨率。单次测量提供厚度、折射率、成分和污染。ECM模式允许快速质量控制和曲面测量。

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光子学

光谱椭偏法以1µm横向分辨率和0.1nm厚度分辨率测量光纤和波导。覆盖190nm到1700nm,可扩展到2700nm,提供光学数据和快速质量控制。

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显示器

微米级区域的光谱测量使用ROI概念在一次运行中进行多次测量。190nm的UV范围表征显示材料。单次测量提供厚度、分散和成分,RCE6模式允许不到20秒的节拍时间。

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电池材料

在操作成像椭偏法监测充电和放电期间的电池电极材料,测量Delta和Psi的微观地图。提供来自各个区域的数据,后处理分析包括轮廓、子区域和直方图分析。