FX40 with monitor

Accurion SIMON

您的成像椭偏仪入门之选

SIMON是专门为日常测量任务而特别设计的。其简单的用户界面和强大的定角椭偏法能够使您轻松进入到椭偏成像领域。它可以在两种不同的模式下运行。其中,显微镜模式非常快,并且允许在最薄层(例如单层:d=0.35nm)中观察变化和缺陷,而椭偏模式则能够测量样品材料的厚度和折射率。 成像椭偏法本身将厚度和折射率测量的灵敏度与显微镜成像相结合。这允许利用例如微结构样品上的微观图像来确定厚度和折射率变化。 典型的应用包括在品控中对大样品的均匀性和缺陷进行表面检查,或对二维材料薄片进行快速定位。

纳米膜的表面检测计量

典型应用:大面积检测和自动片材搜索

SIMON设计用于自动拼接大面积区域,过渡平滑。可以在47分钟内检查一个完整的4英寸晶圆,同时观察小至10微米的缺陷、颗粒和不均匀性。SIMON还允许搜索具有所需厚度的片材或材料。通过SIMON的成像功能,可以对单次测量进行直方图分析,并详细了解厚度或不均匀性的分布。

微结构的厚度和折射率测量

椭偏仪和显微镜的结合可以测量样品的厚度图。这些图与AFM测量结果相当,但也可以测量非顶层。此外,成像椭偏仪将在不到1分钟的时间内测量约500微米(X)x 550微米(Y)的厚度图。厚度分辨率在0.01 nm < d < 5 μm*的范围内低于0.01 nm。椭偏模式还可以确定折射率。这使用户能够确定折射率变化,例如在激光刻写的全息光栅中发生的变化。因此,可以可视化并观察到波导中看到的折射率的微小变化。*取决于样品/基板的组合

主要功能

  • 易操作的入门级系统
  • 成像椭圆偏振仪,横向椭偏分辨率低至1µm的成像椭偏仪
  • 微观结构的厚度和折射率测量
  • 大面积层厚分布和隐藏缺陷的快速可视化

应用

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2D材料

成像光谱椭偏仪表征石墨烯和其他2D材料,使用ep4椭偏仪分析CVD生长、剥离和外延生长的薄片。

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曲面

椭偏法测量平面和曲面上的薄膜和AR涂层。ep4椭偏仪解决了微透镜阵列上的AR涂层问题。

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透明基板

透明基板上的薄膜是柔性显示器的关键。刀刃照明抑制反射,允许非破坏性检查。

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表面工程

硅烷化在涂料和粘合剂中结合矿物/无机和有机成分。成像椭偏法在没有荧光标记的结构阵列中检查键合形成。

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空气-水界面

空气/水界面在生物物理学和工业中至关重要。布儒斯特角显微镜(BAM)可视化Langmuir-Blodgett单分子层和生物材料,研究分子、蛋白质、药物、DNA和纳米粒子。

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各向异性薄膜

各向异性微晶体在电子学中具有前景。成像穆勒矩阵椭偏法(IMME)测量各向异性薄膜样品(如黑磷)的折射率和光轴方向。

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生物界面

成像椭偏法(IE)对单层和亚单层厚度具有高灵敏度。它提供了椭偏角的显微图和厚度变化的对比模式。像细胞和QCM-D这样的附件增强了其生物应用能力。

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MEMS

光谱椭偏法测量小至1µm的MEMS结构,提供0.1nm薄膜厚度分辨率。单次测量提供厚度、折射率、成分和污染。ECM模式允许快速质量控制和曲面测量。

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光子学

光谱椭偏法以1µm横向分辨率和0.1nm厚度分辨率测量光纤和波导。覆盖190nm到1700nm,可扩展到2700nm,提供光学数据和快速质量控制。

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显示器

微米级区域的光谱测量使用ROI概念在一次运行中进行多次测量。190nm的UV范围表征显示材料。单次测量提供厚度、分散和成分,RCE6模式允许不到20秒的节拍时间。

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电池材料

在操作成像椭偏法监测充电和放电期间的电池电极材料,测量Delta和Psi的微观地图。提供来自各个区域的数据,后处理分析包括轮廓、子区域和直方图分析。