Accurion EP4
成像椭偏仪
Accurion EP4 是一款高端成像光谱椭偏仪系统，将光谱椭偏技术与光学显微镜集成于同一台仪器中。它能够以低至 1 µm 的横向分辨率，对微结构样品上的薄膜厚度和折射率进行空间分辨的并行测量，并具备实时椭偏对比成像功能，可直接选取感兴趣区域进行定量分析。
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显微镜方式的椭偏测量
每个像素同步椭偏测量
在 EP4 中，成像光谱椭偏测量可在整个视场范围内并行进行。无需扫描，也无需按顺序进行单点测量。
最高横向椭偏分辨率
凭借低至 1 µm 的横向椭偏分辨率，EP4 即使在最微小的不均匀和微结构特征上，也能够精确测量薄膜厚度和折射率。
先识别，后测量
“先识别，后测量”的原理使用户能够直接在实时椭偏图像中直观地选择感兴趣区域。
连续光谱成像
从紫外到近红外的连续光谱成像，确保在相关光谱范围内实现全面的光学表征。
主要功能
- 横向分辨率低至 1 µm，可精确测量微结构样品的薄膜厚度和折射率。
- 亚纳米级的纵向灵敏度，可高灵敏度检测超薄层，包括单分子层和亚单分子层。
- 成像光谱椭偏测量（覆盖 UV–VIS–NIR），光谱范围可在 190 nm 至 1700 nm 之间配置。
- 真正的并行多像素测量，可在整个视场内的每一个像素上同时进行光谱椭偏测量。
- “先图像识别样品，然后再测量”的测量流程，可在实时视场中直观选择测量区域（选区测量）。
- 用于样品实时可视化观测的椭偏增强对比度图像，可实时显示厚度和光学不均匀性。
- 自动化样品台控制结合大面积拼接功能，可实现大范围样品区域的测量。
- 光斑切割技术，可无损消除透明基底上的背底反射。
- 模块化光学设计，配备可更换物镜，可根据不同测量任务灵活调整。
- 用户友好的 EP4 软件套件（EP4Control、DataStudio、EP4Model），用于仪器控制、数据分析和光学建模。
- 主动减振系统可确保优异的机械稳定性，从而实现高精度测量。
Accurion EP4 通过将成像光谱椭偏技术、光学显微镜和光谱分析集成于同一强大的计量平台之中，重新定义了成像椭偏技术。它能够对小至 1 µm 的微结构进行精确的薄膜计量和折射率测量，因此非常适用于先进表面表征和微结构样品分析。
模块化的 EP4 软件套件通过专用软件模块，实现了直观的仪器控制以及对成像椭偏数据的在线或离线分析。 EP4Control 用于仪器操作和测量执行，包括直接在实时椭偏视图中定义测量参数和感兴趣区域（ROI），以及采集椭偏图谱。 DataStudio 提供测量数据的可视化与处理工具，包括图谱计算与分析、光谱聚类、直方图分析以及截面分析，可用于详细的空间和光谱评估。 EP4Model 支持薄膜和多层膜堆栈的光学建模，可用于确定薄膜厚度和光学常数（n、k）。其高级功能包括有效介质近似、基于穆勒矩阵元素的各向异性材料建模，以及对综合材料数据库的访问。
